ساخت گرنت‌های پژوهشی مختلف در بنیاد ملی علم ایران
به گزارش خبرنگار پژوهندگان عصر،گرنت‌های پژوهشی مختلف در بنیاد ملی علم ایران به محققانی که شایستگی دریافت آن را دارند، اعطا می‌شود و محققان با این نوع از حمایت، طرح‌های تحقیقاتی خود را به انجام می‌رسانند.
ایجاد پوشش‌های نوین فتوکاتالیستی روی زیرلایه تیتانیم برای حذف آلاینده‌های نوظهور» طرحی است که با بهره‌مندی از گرنت سرآمدان توسط آرش فتاح الحسینی استاد دانشگاه بوعلی سینا و با حمایت بنیاد ملی علم ایران انجام شده است.
فتاح الحسینی با مدرک دکتری تخصصی مهندسی مواد از دانشگاه صنعتی اصفهان درباره این طرح توضیح داد: کمبود منابع آب در سال‌های اخیر باعث شده تا در مدیریت منابع آب، استفاده از منابع آب غیرمتعارف به ویژه پساب‌ها بیش از پیش در برنامه‌ریزی‌های کلان مورد توجه قرار گیرد. به‌دلیل عدم توانایی روش‌های سنتی در حذف آلاینده‌های نوظهور، حضور آلاینده‌های نوظهور در دهه‌های اخیر در سراسر جهان به‌عنوان یک مسأله زیست‌محیطی جدی بیان شده است.
وی ادامه داد: فرایند فتوکاتالیستی، روشی کارآمد و نویدبخش است که به‌طور گسترده برای تجزیه انواع آلاینده‌ها مورد توجه قرار گرفته است. دلیل موفقیت این روش، علاوه بر تخریب انواع گوناگونی از ترکیبات آلی، هزینه پایین در اجرا، کارایی بالا و امکان استفاده از نور خورشید به‌عنوان منبع تابش نامتناهی است. باوجود بهبود بازده فتوکاتالیستی و توسعه فتوکاتالیست‌های فعال در محدوده گسترده‌تری از نور خورشید و بازده فتوکاتالیستی بالا، استفاده از فتوکاتالیست‌ها به‌صورت پودری دارای مشکلات و معایبی است، درنتیجه استفاده از پوشش‌های فتوکاتالیستی، منجر به تسهیل فرایند بازیابی فتوکاتالیست، ظرفیت صنعتی شدن و قابلیت استفاده مجدد در چندین مرحله خواهد شد.
این محقق و پژوهشگر در ادامه بیان کرد: علاوه‌بر به‌کارگیری راهکار‌های مختلف در طراحی فتوکاتالیست فعال تحت نور مرئی و مقرون‌به‌صرفه، در راستای دستیابی به بازده فتوکاتالیستی بالا جهت حذف آلاینده‌های نوظهور، طراحی و پیاده‌سازی راکتور‌های نوری کارآمد امری ضروری است. در این تحقیق بعد از مهندسی فتوکاتالیست جهت دستیابی به فتوکاتالیست فعال تحت نور مرئی با بازده فتوکاتالیستی بالا، کم‌ترین و مؤثرترین پارامتر‌ها در بهینه‌سازی طراحی و عملکرد مدنظر قرار گرفت.
وی در پایان خاطر نشان کرد: طراحی و پوشش‌دهی فتوکاتالیست‌های حاوی اکسید تیتانیم برای حذف آلاینده‌های نوظهور، مشخصه‌یابی پوشش‌های فتوکاتالیستی، بررسی فعالیت فتوکاتالیستی پوشش‌های مختلف برای تخریب آلاینده نوظهور و پایداری بعد از فعالیت کاتالیستی و بازیابی مجدد پوشش‌های فتوکاتالیستی نیز با استفاده مجدد آن‌ها در این تحقیق مورد بررسی قرار گرفت.